U-FAST(SPS)设备和技术
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U-FAST-升级版的放电等离子烧结炉(SPS)

U-FAST-升级版的放电等离子烧结炉(SPS)

SPS(放电等离子烧结)技术,也被称为FAST(现场辅助烧结技术),可以利用脉冲电流有效地烧结纯金属粉末、金属合金以及陶瓷和金属复合材料。FAST技术的关键方面是能够在比其他可用方法低得多的温度下进行烧结过程。有效的限制晶粒长大,并提供了更优异的材料参数。因为是内部直接产生热量,FAST的优点还具有烧结时间短、材料均匀性高,热效率高等特点。

GeniCore 的U-FAST 得益于其基于独特脉冲形状的先进加热系统,与其他可用的 FAST 设备相比,可以实现更好的结果,因此命名为GeniCore U-FAST(升级的场辅助烧结技术)。为使在用其他方法所无法达到预期材料性能的领域,GeniCore的U-FAST开辟了许多可能性。

GeniCore的 U-FAST在工具行业、矿业和先进电子等领域的应用证明其有效性。而在新材料研发领域,作用会更大。


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SPS(放电等离子烧结)技术,也被称为FAST(现场辅助烧结技术),可以利用脉冲电流有效地烧结纯金属粉末、金属合金以及陶瓷和金属复合材料。FAST技术的关键方面是能够在比其他可用方法低得多的温度下进行烧结过程。有效的限制晶粒长大,并提供了更优异的材料参数。因为是内部直接产生热量,FAST的优点还具有烧结时间短、材料均匀性高,热效率高等特点。

GeniCore 的U-FAST 得益于其基于独特脉冲形状的先进加热系统,与其他可用的 FAST 设备相比,可以实现更好的结果,因此命名为GeniCore U-FAST(升级的场辅助烧结技术)。为使在用其他方法所无法达到预期材料性能的领域,GeniCore的U-FAST开辟了许多可能性。

GeniCore的 U-FAST在工具行业、矿业和先进电子等领域的应用证明其有效性。而在新材料研发领域,作用会更大。


Available models

型号最大烧结直径 [mm]压力 [kN]电流 [A]电压 [V]极限真空 [mbar]
U-FAST GC 3535125330014< 5×10-2
U-FAST GC 35 – HV35125330014< 5×10-5
U-FAST GC 5555200660014< 5×10-2
U-FAST GC 55 – HV55200660014< 5×10-5
U-FAST GC 85853001000014< 5×10-2
U-FAST GC 85 – HV853001000014< 5×10-5

GeniCore U-FAST设备由于其模块化设计,允许在项目进程中升级设备,这意味着即使最初获得了GC 35模型,也可以获得GC 85-HV模型。

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